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MK01256	状态：分散液 片径：0.1-2 μm 层数≤5 层 单层率≧ 90% 纯度： ≧99.9 wt% 主要成分：Mo2C 制备方法：HF 刻蚀 特点：层状结构； 性能； 储能性能 浓度：2 mg/ml 溶剂：水溶液	包装说明：25 ml/包装	1	现货	5,075.00	5,075.00
MK01257	状态：分散液 片径：0.1-2 μm 层数≤5 层 单层率≧ 90% 纯度： ≧99.9 wt% 主要成分：Mo2C 制备方法：HF 刻蚀 特点：层状结构； 性能； 储能性能 浓度：2 mg/ml 溶剂：水溶液	包装说明：50 ml/包装	1	现货	6,525.00	6,525.00
MK01258	状态：分散液 片径：0.1-2 μm 层数≤5 层 单层率≧ 90% 纯度： ≧99.9 wt% 主要成分：Mo2C 制备方法：HF 刻蚀 特点：层状结构； 性能； 储能性能 浓度：2 mg/ml 溶剂：水溶液	包装说明：100 ml/包装	1	现货	9,425.00	9,425.00
MK01259	状态：分散液 片径：0.1-2 μm 层数≤5 层 单层率≧ 90% 纯度： ≧99.9 wt% 主要成分：Mo2C 制备方法：HF 刻蚀 特点：层状结构； 性能； 储能性能 浓度：2 mg/ml 溶剂：水溶液	包装说明：200 ml/包装	1	现货	17,400.00	17,400.00